25 Temmuz 2026Teknolojiye dair her şey!
Son Haberler
AnasayfaDonanımRusya, 150nm elektron ışını litografi sistemini tanıttı
Donanım

Rusya, 150nm elektron ışını litografi sistemini tanıttı

Rusya, 150nm elektron ışını litografi sistemini tanıttı
⏱ 2 dk okuma👁 16 görüntülenme
Rusya’nın yarı iletken alanındaki yerli üretim çalışmaları sürüyor. Ülkeden gelen yeni açıklamaya göre, Zelenograd Nanoteknoloji Merkezi, 150 nanometre çözünürlüğe sahip elektron ışını doğrudan yazım (Electron Beam Direct Write) litografi sisteminin prototipini geliştirmeyi başardı. “Progress ELL 150” olarak adlandırılan sistem, özellikle düşük hacimli özel çip üretimine odaklanıyor.

Elektron ışını litografi nasıl çalışıyor?

Haberi okuduğunuz için teşekkürler, bizi takip etmeyi unutmayın!

Rus basınında yer alan bilgilere göre prototip sistem, Haziran 2026’da tamamlandı. Şirket şu anda iki farklı prototip üzerinde yaklaşık dört ay sürecek ilk testleri yürütüyor. Bu sürecin ardından desenleme hassasiyeti, doğruluk seviyesi ve diğer teknik özellikler ayrıntılı şekilde değerlendirilecek. Elektron ışını litografi (Electron Beam Lithography – EBL), geleneksel fotolitografi yöntemlerinden farklı olarak fotomaske kullanmadan doğrudan desen oluşturabiliyor.

Bu sayede prototip geliştirme ve düşük hacimli üretimde yüksek esneklik sunuyor. Ancak sistemin en büyük dezavantajı, üretim hızının fotolitografi makinelerine kıyasla oldukça düşük olması. Bu nedenle EBL teknolojisi günümüzde büyük ölçekli çip üretiminde değil, daha çok gelişmiş fotomaskelerin hazırlanması veya araştırma amaçlı üretim süreçlerinde kullanılıyor.

Öncelik savunma ve uzay sanayisi

Rusya’nın geliştirdiği sistemin tüketici elektroniği için seri üretim hedeflemediği belirtiliyor. Bunun yerine savunma ve uzay sanayisinde ihtiyaç duyulan, üretim hacmi görece düşük ancak özelleştirilmiş yarı iletkenlerin üretiminde kullanılabilir. Bu tür uygulamalarda üretim kapasitesinden çok tasarım esnekliği ön plana çıktığı için elektron ışını litografi teknolojisinin ticari açıdan anlamlı bir seçenek konumunda.

150nm, günümüzün 2nm ve 3nm gibi ileri üretim süreçlerinin oldukça gerisinde kalsa da, Rusya’da yerli litografi sistemleri açısından önemli bir avantaj sağlayabilir. Sistemin seri üretime uygun hale gelip gelmeyeceği ise test sürecinin tamamlanmasının ardından netlik kazanacak.

Bu haber hakkında ne düşünüyorsun?

Tek tıkla reaksiyon bırakabilirsin.

Yorumlar

0 yorum
İlk yorumu sen yaz.

Yorum bırak

E-posta adresiniz yayınlanmayacak. Gerekli alanlar * ile işaretlenmişlerdir