Günün Manşeti
High NA EUV ile Çip Üretiminde Yeni Bir Dönem: Tarihler Belirleniyor
ASML’nin yeni nesil High NA EUV litografi sistemleri, Intel’in ardından Samsung ve TSMC tarafından da kullanılacak. Şirketler, 12 inçlik fotomaskelere geçi…
OpenAI’ya Yeni Suçlama: Korsan Kitaplarla Eğitim Yaptığı İddia Edildi
Authors Guild, OpenAI'ın izinsiz olarak korsan kitapları eğitim verisi olarak kullandığını ve bu verileri...
Samsung, High NA EUV Litografisini DRAM Üretimine Entegre Edecek
Samsung Electronics, ASML ile işbirliği içinde, yeni nesil High NA EUV litografi teknolojisini 2028...